SPV-200 Macchina per la pulizia al plasma sottovuoto
- Descrizione
- Inchiesta
Descrizione
SPV-200 Macchina per la pulizia al plasma sottovuoto
Contorno:
Vacuum Plasma Cleaner(Pulitore al plasma),il gas viene separato allo stato di plasma attraverso l'alimentazione di eccitazione, e il plasma agisce sulla superficie del prodotto per pulire gli inquinanti sulla superficie del prodotto, in modo da migliorare l'attività superficiale e migliorare l'adesione. La pulizia al plasma è una novità, protezione ambientale, trattamento superficiale efficiente e stabile.
SPV-200 Macchina per la pulizia al plasma sottovuoto
Pcaratteristica del prodotto:
1.Product placement fixture flexible, can adapt to irregular products
2.Horizontal electrode design can meet the requirements of soft product processing.
3.Low energy and gas consumption products.
4.Convenient way to put up and down the board
5.Vacuum system integration, small footprint
6.Reasonable plasma reaction space, so that the treatment is more uniform
7.Integrated control system design makes operation more convenient
SPV-200 Macchina per la pulizia al plasma sottovuoto
IOapplicazione industriale:
1.Mobile phone industry: TP, middle frame, back cover surface cleaning activation
2.PCB/FPC industry: hole drilling and surface cleaning, Coverlay surface coarsening and cleaning
3.Industria dei semiconduttori: semiconductor packaging, modulo fotocamera, LED packaging, BGA packaging, 4.Wire Bond pretreatment
5.Ceramics: confezione, pre-treatment of glue
6.Surface roughening etching: PI surface roughening, PPS etching, semiconductor silicon chip PN junction removal, ITO film etching
7.Plastic materials: Teflon surface activation, ABS surface activation, and other plastic material cleaning activation
8.Clean the surface before applying ITO
SPV-200 Macchina per la pulizia al plasma sottovuoto
Sspecifica dell'attrezzatura:
Power system | radio-frequency power supply | medium-frequency power supply | |
energia | 0~1000W | 0~2000W | |
frequenza | 13.56MHz | 40KHz | |
vacuum system | · multi cell pump
| Roots pump + single stage rotary vane pump | |
vacuum line | All stainless steel piping, and high strength vacuum bellows | ||
· Material
| Aluminum alloy (customizable stainless steel chamber) | ||
spessore | 25mm | ||
leakproofness | Military grade welding seal | ||
Cavity internal dimensions | 600×600×600mm(W×H×D) | ||
Effective size of electrode plate | 575×510mm(W×D) | ||
Available space spacing | 34mm | ||
Electrode plate layout | Horizontal layout, movable extraction | ||
Work tray | Standard set, material optional (alluminio, wire mesh) | ||
work space | 8 strato | ||
Gas system | flow range | 0~300SCCM | |
Process gas gas circuit | Standard two channels, can be customized (argon, ossigeno, azoto, hydrogen, carbon tetrafluoride) | ||
sistema di controllo | systems control | PLC | |
delivery method | 7 schermo tattile da pollici | ||
· Other Parameter
| boundary dimension | 1050×1750×1050mm(宽×高×深) | |
peso | 350KG | ||
Device Appearance Color | silver gray |
Specifiche di fabbrica:
Specifiche di fabbrica | |
Specifiche di alimentazione CA
| Alimentazione elettrica:AC380V,50/60Hz,5filo,50UN |
Scarico di fabbrica
| Flow:2.0 m³/min |
Gas requirements for plant work
| Flow:1~10 L/min Pressure:3~7kg/cm² Pipe diameter:6×4 mm Texture:Tubo in PU Purezza:More than 99.99% |
Factory compressed air requirements
| Flow:1~10 L/min Pressure:3~7kg/cm² Pipe diameter:8×5 mm Texture:Tubo in PU Dew point:-40℃ under Particella>0,3μm:10Pezzi/ft³ |
2.3 Ggeneralmente Rrequisiti
Requisiti generali | |
Identificazione del rischio | Identificazione del pericolo di alta pressione
|
Ambiente di servizio | temperatura:15~30℃ umidità:30~70% |
Altre questioni che richiedono attenzione | Gas non combustibili, gas corrosivi, esplosioni o polveri reattive Gas cylinders need to be fixed |
Elenco di configurazione | |||||
Serial Number | Nome | description | unità | quantity | |
1 | Main engine | boundary dimension:1050×1750×1050mm (width × height × depth) | Pc | 1 | |
2 | Love sincerely | Aluminum alloy vacuum chamber inside dimension 450×450×500mm (width × height × depth) | Pc | 1 | |
3 | Excitation power supply | radio-frequency power supply | edium-frequency power supply | Set | 1 |
frequenza:13.56MHz; Energia: 0~1000W Equipped with automatic vacuum capacitor matching machine | frequenza:40KHz; 0~2000W;
| ||||
4 | PLC | Siemens,S7-200 | Pc | 1 | |
5 | Touch screen | Wei lun tong,7 inch screen,MT6071iE | Pc | 1 | |
6 | Misuratore di flusso | · British wawick brand,Argon,Oxygen
| Pc | 2 | |
7 | Vacuum pump | Roots pump (BSJ70) -251 m3/h + single stage rotary vane pump (Laipo SV100B-100m3/h) | Pc | 1 | |
8 | Vacuum gauge | · INFICON
| Pc | 1 | |
9 | Specifica | Vacuum plasma cleaning machine spv-200 operation manual | Pc | 1 |