SPV-200 Vacuümplasmareinigingsmachine
- Beschrijving
- Navraag
Beschrijving
SPV-200 Vacuümplasmareinigingsmachine
Overzicht:
Vacuüm plasmareiniger(Plasma-reiniger),het gas wordt via de excitatievoeding in plasmatoestand gescheiden, en het plasma werkt op het productoppervlak om de verontreinigende stoffen op het productoppervlak te reinigen, om de oppervlakteactiviteit te verbeteren en de hechting te verbeteren. Plasmareiniging is nieuw, milieubescherming, efficiënte en stabiele oppervlaktebehandeling.
SPV-200 Vacuümplasmareinigingsmachine
Pproducteigenschap:
1.Productplaatsingsarmatuur flexibel, kan zich aanpassen aan onregelmatige producten
2.Het horizontale elektrodeontwerp kan voldoen aan de eisen van de verwerking van zachte producten.
3.Producten met een laag energie- en gasverbruik.
4.Handige manier om het bord op en neer te zetten
5.Integratie van vacuümsystemen, kleine voetafdruk
6.Redelijke plasmareactieruimte, zodat de behandeling uniformer is
7.Het geïntegreerde besturingssysteemontwerp maakt de bediening gemakkelijker
SPV-200 Vacuümplasmareinigingsmachine
Iindustriële toepassing:
1.Mobiele telefoonindustrie: TP, middelste frame, activering van oppervlaktereiniging achteromslag
2.PCB/FPC-industrie: gaten boren en oppervlaktereiniging, Opruwen en reinigen van het oppervlak van de coverlay
3.Halfgeleiderindustrie: halfgeleider verpakking, cameramodule, LED-verpakking, BGA-verpakking, 4.Wire Bond-voorbehandeling
5.Keramiek: verpakking, voorbehandeling van lijm
6.Oppervlak opruwen etsen: PI-oppervlak opruwen, PPS-etsen, halfgeleider siliciumchip PN-overgang verwijderen, DIT is filmetsen
7.Plastic materialen: Activering van het Teflon-oppervlak, ABS-oppervlakteactivering, en andere reinigingsactivatie van plastic materiaal
8.Reinig het oppervlak voordat u ITO aanbrengt
SPV-200 Vacuümplasmareinigingsmachine
Sspecificatie van apparatuur:
Energie systeem | radio-frequency power supply | medium-frequency power supply | |
stroom | 0~1000W | 0~2000W | |
frequency | 13.56MHz | 40KHz | |
vacuum system | · multi cell pump
| Roots pump + single stage rotary vane pump | |
vacuum line | Alle roestvrijstalen leidingen, en vacuümbalgen met hoge sterkte | ||
· Material
| Aluminium profiel (customizable stainless steel chamber) | ||
dikte | 25mm | ||
leakproofness | Military grade welding seal | ||
Cavity internal dimensions | 600×600×600mm(W×H×D) | ||
Effective size of electrode plate | 575×510mm(W×D) | ||
Available space spacing | 34mm | ||
Electrode plate layout | Horizontal layout, movable extraction | ||
Work tray | Standard set, material optional (aluminium, wire mesh) | ||
work space | 8 layer | ||
Gas system | flow range | 0~300SCCM | |
Process gas gas circuit | Standard two channels, can be customized (argon, oxygen, stikstof, hydrogen, carbon tetrafluoride) | ||
control system | systems control | PLC | |
delivery method | 7 inch touch screen | ||
· Other Parameter
| grens dimensie | 1050×1750×1050mm(宽×高×深) | |
gewicht | 350KG | ||
Device Appearance Color | silver gray |
Fabrieksspecificaties:
Fabrieksspecificaties | |
Ac power specification
| Stroomvoorziening:AC380V,50/60Hz,5draad,50A |
Factory exhaust
| Flow:2.0 m³/min |
Gas requirements for plant work
| Flow:1~10 L/min Druk:3~7 kg/cm² Pipe diameter:6×4 mm Texture:PU pipe Puurheid:Meer dan 99.99% |
Factory compressed air requirements
| Flow:1~10 L/min Druk:3~7 kg/cm² Pipe diameter:8×5 mm Texture:PU pipe Dew point:-40℃ under Particle>0.3μm:10Pcs/ft³ |
2.3 General Requirements
Algemene vereisten | |
Risk identification | High pressure hazard identification
|
Service environment | temperatuur:15~30℃ vochtigheid:30~70% |
Other matters needing attention | No combustible gases, corrosive gases, explosions or reactive dust Gas cylinders need to be fixed |
Configuration list | |||||
Serial Number | Naam | description | eenheid | quantity | |
1 | Main engine | grens dimensie:1050×1750×1050mm (width × height × depth) | Pc | 1 | |
2 | Love sincerely | Vacuümkamer van aluminiumlegering inside dimension 450×450×500mm (width × height × depth) | Pc | 1 | |
3 | Excitatie voeding | radio-frequency power supply | edium-frequency power supply | Set | 1 |
frequency:13.56MHz; Stroom: 0~1000W Equipped with automatic vacuum capacitor matching machine | frequency:40KHz; 0~2000W;
| ||||
4 | PLC | Siemens,S7-200 | Pc | 1 | |
5 | Touch screen | Wei lun tong,7 inch-scherm,MT6071iE | Pc | 1 | |
6 | Flowmeter | · British wawick brand,Argon,Zuurstof
| Pc | 2 | |
7 | Vacuum pomp | Roots pump (BSJ70) -251 m3/u + single stage rotary vane pump (Laipo SV100B-100m3/h) | Pc | 1 | |
8 | Vacuum gauge | · INFICON
| Pc | 1 | |
9 | Specificatie | Vacuum plasma cleaning machine spv-200 operation manual | Pc | 1 |