SPK-500S Hurtownia fabryczna maszyny do czyszczenia plazmowego Środek do czyszczenia plazmowego
- Opis
- Zapytanie
Opis
SPK-500S Hurtownia fabryczna maszyny do czyszczenia plazmowego Środek do czyszczenia plazmowego
Zarys:
SPK-500S Wide Plasma Cleaning Machine(Środek czyszczący plazmowy),gaz jest rozdzielany do stanu plazmowego poprzez źródło zasilania wzbudzenia, oraz plazma ACTS na powierzchni produktu w celu oczyszczenia zanieczyszczeń z powierzchni produktu, w celu poprawy aktywności powierzchni i zwiększenia przyczepności. Czyszczenie plazmowe jest nowością, ochrona środowiska, wydajna i stabilna obróbka powierzchni.
SPK-500S Hurtownia fabryczna maszyny do czyszczenia plazmowego Środek do czyszczenia plazmowego
Pcecha produktu:
1.A dielectric is placed between the metal electrodes, and a uniform electric field is formed and a plasma is generated by taking advantage of the polarization phenomenon on the surface of the dielectric.
2.It can form plasma on a large scale and can be used with automatic pipeline;
3.More reliable power amplifier and dc module, using automatic vacuum capacitor matcher to provide long-term stable process time guarantee;
4.Suitable for mass production of large size products;
5.Low treatment temperature, conventional treatment temperature < 40℃.
SPK-500S Hurtownia fabryczna maszyny do czyszczenia plazmowego Środek do czyszczenia plazmowego
Izastosowanie branżowe:
1.Branża wystawowa: TP fitting, panel surface activation, surface cleaning before ITO coating;
2.Glass cover industry: AF coating pretreatment, AF/AS overflow plating removal, druk atramentowy;
3.Semiconductor: integrated package bonding, Wire bond pretreatment, ceramic packaging, BGA/LED surface activation;
4.Circuit board: FPC/PCB organic cleaning and surface activation;
5.Przemysł tworzyw sztucznych: surface modification, surface coarsening.
SPK-500S Hurtownia fabryczna maszyny do czyszczenia plazmowego Środek do czyszczenia plazmowego
Specification of equipment:
Broad plasma host | |
Specification of the machine | L1800×W1107×H1408mm |
Waga | 280Kg |
Requirements planning | AC 220V/50Hz single phase 2.5KW |
Plasma generator specification | |
POWER | 0-600W adjustable |
Częstotliwość sieciowa | 13.56MHz |
Matcher | Fully automatic vacuum capacitor matching unit
|
Specyfikacja głowicy pistoletu plazmowego | |
Treatment process | 800mm |
Rozmiar główki włóczni | L570*W90*H74mm |
Waga | 10Kg |
The gun head is adjustable in height
| 0-10mm(regulation precision ±0.3) |
Common processing height
| From 1 Do 5 mm or less
|
Cooling range of gun head
| 25-35℃ |
Process gas | |
The use of gas | Ar with O2 Two way gas |
Ar Gas regulation range
| ≤50L/min |
O2 Gas regulation range
| ≤50SCCM |
Pipeline specification | |
Pipeline speed | 0-100 – mm/s is adjustable
|
Feed belt | 1.5M |
The belt material | skid resistance PU |
Induction and alarm | |
Sensing system | Card and lamination induction and emergency stop |
Call the police | With sound and light alarm function |
SPK-500S Hurtownia fabryczna maszyny do czyszczenia plazmowego Środek do czyszczenia plazmowego
2.2 Specyfikacje fabryczne
Installation environment requirements | ||
Demand for power supply | AC 220V/50Hz single phase 2.5KW | |
Hvac, argon gas (Ar) | ciśnienie:0.3-0.8Mpa flow:15-50L/min purity:99.99% | |
The equipments of oxygen (O2) | ciśnienie:0.1-0.5Mpa flow:0-100mL/min purity:99.99% | |
Service clearance | 100cm |