Opis

SPK-500S Hurtownia fabryczna maszyny do czyszczenia plazmowego Środek do czyszczenia plazmowego

Zarys:

SPK-500S Wide Plasma Cleaning Machine(Środek czyszczący plazmowy),gaz jest rozdzielany do stanu plazmowego poprzez źródło zasilania wzbudzenia, oraz plazma ACTS na powierzchni produktu w celu oczyszczenia zanieczyszczeń z powierzchni produktu, w celu poprawy aktywności powierzchni i zwiększenia przyczepności. Czyszczenie plazmowe jest nowością, ochrona środowiska, wydajna i stabilna obróbka powierzchni.

 

SPK-500S Hurtownia fabryczna maszyny do czyszczenia plazmowego Środek do czyszczenia plazmowego

Pcecha produktu:

1.A dielectric is placed between the metal electrodes, and a uniform electric field is formed and a plasma is generated by taking advantage of the polarization phenomenon on the surface of the dielectric.

2.It can form plasma on a large scale and can be used with automatic pipeline;

3.More reliable power amplifier and dc module, using automatic vacuum capacitor matcher to provide long-term stable process time guarantee;

4.Suitable for mass production of large size products;

5.Low treatment temperature, conventional treatment temperature < 40℃.

 

SPK-500S Hurtownia fabryczna maszyny do czyszczenia plazmowego Środek do czyszczenia plazmowego

Izastosowanie branżowe:

1.Branża wystawowa: TP fitting, panel surface activation, surface cleaning before ITO coating;

2.Glass cover industry: AF coating pretreatment, AF/AS overflow plating removal, druk atramentowy;

3.Semiconductor: integrated package bonding, Wire bond pretreatment, ceramic packaging, BGA/LED surface activation;

4.Circuit board: FPC/PCB organic cleaning and surface activation;

5.Przemysł tworzyw sztucznych: surface modification, surface coarsening.

 

SPK-500S Hurtownia fabryczna maszyny do czyszczenia plazmowego Środek do czyszczenia plazmowego

Specification of equipment:

 

Broad plasma host

Specification of the machineL1800×W1107×H1408mm
Waga280Kg
Requirements planningAC 220V/50Hz single phase 2.5KW
Plasma generator specification
POWER0-600W adjustable
Częstotliwość sieciowa13.56MHz
Matcher 

Fully automatic vacuum capacitor matching unit

 

Specyfikacja głowicy pistoletu plazmowego
Treatment process800mm
Rozmiar główki włóczniL570*W90*H74mm
Waga10Kg
 

The gun head is adjustable in height

 

0-10mm(regulation precision ±0.3)
 

Common processing height

 

 

From 1 Do 5 mm or less

 

 

Cooling range of gun head

 

25-35℃
Process gas
The use of gasAr with O2 Two way gas
Ar Gas regulation range

 

 

≤50L/min
O2 Gas regulation range

 

 

≤50SCCM
Pipeline specification
Pipeline speed 

0-100 – mm/s is adjustable

 

Feed belt1.5M
The belt materialskid resistance PU
Induction and alarm
Sensing systemCard and lamination induction and emergency stop
Call the policeWith sound and light alarm function

 

SPK-500S Hurtownia fabryczna maszyny do czyszczenia plazmowego Środek do czyszczenia plazmowego

2.2 Specyfikacje fabryczne

Installation environment requirements
Demand for power supplyAC 220V/50Hz single phase 2.5KW 
 

Hvac, argon gas

(Ar)

ciśnienie:0.3-0.8Mpa

flow:15-50L/min

purity:99.99%

 
 

The equipments of oxygen

(O2)

ciśnienie:0.1-0.5Mpa
flow:0-100mL/min

purity:99.99%

 
Service clearance100cm






    został dodany do Twojego koszyka:
    Wymeldować się