Descrição

Máquina de limpeza a plasma a vácuo SPV-200

Contorno:

Aspirador de plasma a vácuo(Limpador de plasma),o gás é separado no estado de plasma através da fonte de alimentação de excitação, e o plasma ATUA na superfície do produto para limpar os poluentes na superfície do produto, de modo a melhorar a atividade da superfície e aumentar a adesão. A limpeza por plasma é uma nova, Proteção Ambiental, tratamento de superfície eficiente e estável.

Máquina de limpeza a plasma a vácuo SPV-200

Pcaracterística do produto:

1.Dispositivo de colocação de produto flexível, pode se adaptar a produtos irregulares

2.O design do eletrodo horizontal pode atender aos requisitos de processamento de produtos leves.

3.Produtos de baixo consumo de energia e gás.

4.Maneira conveniente de colocar e baixar o tabuleiro

5.Integração do sistema de vácuo, pequena pegada

6.Espaço de reação plasmática razoável, para que o tratamento seja mais uniforme

7.O design do sistema de controle integrado torna a operação mais conveniente

Máquina de limpeza a plasma a vácuo SPV-200

EUaplicação na indústria:

1.Indústria de telefonia móvel: PT, quadro intermediário, ativação de limpeza da superfície da tampa traseira

2.Indústria de PCB/FPC: perfuração de furos e limpeza de superfícies, Endurecimento e limpeza da superfície da cobertura

3.Indústria de semicondutores: embalagem de semicondutores, módulo de câmera, Embalagem LED, Embalagem BGA, 4.Pré-tratamento de Wire Bond

5.Cerâmica: embalagem, pré-tratamento de cola

6.Gravura rugosa de superfície: Rugosidade da superfície PI, Gravura PPS, remoção da junção PN do chip de silício semicondutor, ISTO é gravação de filme

7.Materiais plásticos: Ativação de superfície de Teflon, Ativação de superfície ABS, e outra ativação de limpeza de material plástico

8.Limpe a superfície antes de aplicar ITO

Máquina de limpeza a plasma a vácuo SPV-200

Sespecificação de equipamentos:

Sistema de energiafonte de alimentação de radiofrequênciafonte de alimentação de média frequência
poder0~1000W0~ 2.000 W
frequência13.56MHz40KHz
vacuum system· multi cell pump

 

Roots pump + single stage rotary vane pump
linha de vácuoAll stainless steel piping, and high strength vacuum bellows
· Material

 

Liga de alumínio (customizable stainless steel chamber)
grossura25milímetros
estanqueidadeSelo de soldagem de nível militar
Dimensões internas da cavidade600×600×600mm(W×H×D)
Tamanho efetivo da placa do eletrodo575×510mm(W×D)
Espaçamento de espaço disponível34milímetros
Electrode plate layoutHorizontal layout, movable extraction
Bandeja de trabalhoStandard set, material opcional (alumínio, wire mesh)
área de trabalho8 camada
Sistema de gásfaixa de fluxo0~300SCCM
Process gas gas circuitStandard two channels, Pode ser personalizado (argon, oxigênio, nitrogen, hydrogen, carbon tetrafluoride)
control systemcontrole de sistemasCLP
Método de Entrega7 tela sensível ao toque de polegadas
· Other Parameter

dimensão limite1050×1750×1050mm(宽×高×深)
peso350KG
Device Appearance Colorcinza prateado

Especificações de fábrica:

Especificações de fábrica
Especificação de energia CA

 

Fonte de energia:AC380V,50/60Hz,5arame,50A
Escape de fábrica

 

Fluxo:2.0 m³/min
Requisitos de gás para trabalho na planta

 

Fluxo:1~10 L/min

Pressão:3~7kg/cm²

Diâmetro do tubo:6×4mm

Textura:Tubo PU

Pureza:Mais do que 99.99%

Requisitos de ar comprimido de fábrica

 

Fluxo:1~10 L/min

Pressão:3~7kg/cm²

Diâmetro do tubo:8×5mm

Textura:Tubo PU

ponto de condensação da água:-40℃ abaixo

Partícula>0,3 μm:10Unidades/ft³

2.3 General Requirements

Requerimentos gerais
Risk identificationHigh pressure hazard identification

 

Service environmenttemperatura:15~30℃

umidade:30~70%

Other matters needing attentionNo combustible gases, corrosive gases, explosions or reactive dust

Gas cylinders need to be fixed

Configuration list
Serial NumberNomedescriçãounidadequantity
1Motor principaldimensão limite:1050×1750×1050mm

(largura × altura × profundidade)

Pc1
2Love sincerelyAluminum alloy vacuum chamber

inside dimension 450×450×500mm

(largura × altura × profundidade)

Pc1
3Excitation power supplyfonte de alimentação de radiofrequênciaedium-frequency power supplySet1
frequência:13.56MHz;

Poder: 0~1000W

Equipped with automatic vacuum capacitor matching machine

frequência:40KHz;

0~ 2.000 W;

 

4CLPSiemensS7-200Pc1
5Tela sensível ao toqueWei lun tong,7 inch screenMT6071iEPc1
6Medidor de vazão· British wawick brand,Argon,Oxigênio

 

Pc2
7Bomba de vácuoRoots pump (BSJ70) -251 m3/h + single stage rotary vane pump (Laipo SV100B-100m3/h)Pc1
8Vacuum gauge· INFICON

 

Pc1
9EspecificaçãoVacuum plasma cleaning machine spv-200 operation manualPc1






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