Máquina de limpeza a plasma a vácuo SPV-200
- Descrição
- Investigação
Descrição
Máquina de limpeza a plasma a vácuo SPV-200
Contorno:
Aspirador de plasma a vácuo(Limpador de plasma),o gás é separado no estado de plasma através da fonte de alimentação de excitação, e o plasma ATUA na superfície do produto para limpar os poluentes na superfície do produto, de modo a melhorar a atividade da superfície e aumentar a adesão. A limpeza por plasma é uma nova, Proteção Ambiental, tratamento de superfície eficiente e estável.
Máquina de limpeza a plasma a vácuo SPV-200
Pcaracterística do produto:
1.Dispositivo de colocação de produto flexível, pode se adaptar a produtos irregulares
2.O design do eletrodo horizontal pode atender aos requisitos de processamento de produtos leves.
3.Produtos de baixo consumo de energia e gás.
4.Maneira conveniente de colocar e baixar o tabuleiro
5.Integração do sistema de vácuo, pequena pegada
6.Espaço de reação plasmática razoável, para que o tratamento seja mais uniforme
7.O design do sistema de controle integrado torna a operação mais conveniente
Máquina de limpeza a plasma a vácuo SPV-200
EUaplicação na indústria:
1.Indústria de telefonia móvel: PT, quadro intermediário, ativação de limpeza da superfície da tampa traseira
2.Indústria de PCB/FPC: perfuração de furos e limpeza de superfícies, Endurecimento e limpeza da superfície da cobertura
3.Indústria de semicondutores: embalagem de semicondutores, módulo de câmera, Embalagem LED, Embalagem BGA, 4.Pré-tratamento de Wire Bond
5.Cerâmica: embalagem, pré-tratamento de cola
6.Gravura rugosa de superfície: Rugosidade da superfície PI, Gravura PPS, remoção da junção PN do chip de silício semicondutor, ISTO é gravação de filme
7.Materiais plásticos: Ativação de superfície de Teflon, Ativação de superfície ABS, e outra ativação de limpeza de material plástico
8.Limpe a superfície antes de aplicar ITO
Máquina de limpeza a plasma a vácuo SPV-200
Sespecificação de equipamentos:
Sistema de energia | fonte de alimentação de radiofrequência | fonte de alimentação de média frequência | |
poder | 0~1000W | 0~ 2.000 W | |
frequência | 13.56MHz | 40KHz | |
vacuum system | · multi cell pump
| Roots pump + single stage rotary vane pump | |
linha de vácuo | All stainless steel piping, and high strength vacuum bellows | ||
· Material
| Liga de alumínio (customizable stainless steel chamber) | ||
grossura | 25milímetros | ||
estanqueidade | Selo de soldagem de nível militar | ||
Dimensões internas da cavidade | 600×600×600mm(W×H×D) | ||
Tamanho efetivo da placa do eletrodo | 575×510mm(W×D) | ||
Espaçamento de espaço disponível | 34milímetros | ||
Electrode plate layout | Horizontal layout, movable extraction | ||
Bandeja de trabalho | Standard set, material opcional (alumínio, wire mesh) | ||
área de trabalho | 8 camada | ||
Sistema de gás | faixa de fluxo | 0~300SCCM | |
Process gas gas circuit | Standard two channels, Pode ser personalizado (argon, oxigênio, nitrogen, hydrogen, carbon tetrafluoride) | ||
control system | controle de sistemas | CLP | |
Método de Entrega | 7 tela sensível ao toque de polegadas | ||
· Other Parameter
| dimensão limite | 1050×1750×1050mm(宽×高×深) | |
peso | 350KG | ||
Device Appearance Color | cinza prateado |
Especificações de fábrica:
Especificações de fábrica | |
Especificação de energia CA
| Fonte de energia:AC380V,50/60Hz,5arame,50A |
Escape de fábrica
| Fluxo:2.0 m³/min |
Requisitos de gás para trabalho na planta
| Fluxo:1~10 L/min Pressão:3~7kg/cm² Diâmetro do tubo:6×4mm Textura:Tubo PU Pureza:Mais do que 99.99% |
Requisitos de ar comprimido de fábrica
| Fluxo:1~10 L/min Pressão:3~7kg/cm² Diâmetro do tubo:8×5mm Textura:Tubo PU ponto de condensação da água:-40℃ abaixo Partícula>0,3 μm:10Unidades/ft³ |
2.3 General Requirements
Requerimentos gerais | |
Risk identification | High pressure hazard identification
|
Service environment | temperatura:15~30℃ umidade:30~70% |
Other matters needing attention | No combustible gases, corrosive gases, explosions or reactive dust Gas cylinders need to be fixed |
Configuration list | |||||
Serial Number | Nome | descrição | unidade | quantity | |
1 | Motor principal | dimensão limite:1050×1750×1050mm (largura × altura × profundidade) | Pc | 1 | |
2 | Love sincerely | Aluminum alloy vacuum chamber inside dimension 450×450×500mm (largura × altura × profundidade) | Pc | 1 | |
3 | Excitation power supply | fonte de alimentação de radiofrequência | edium-frequency power supply | Set | 1 |
frequência:13.56MHz; Poder: 0~1000W Equipped with automatic vacuum capacitor matching machine | frequência:40KHz; 0~ 2.000 W;
| ||||
4 | CLP | Siemens,S7-200 | Pc | 1 | |
5 | Tela sensível ao toque | Wei lun tong,7 inch screen,MT6071iE | Pc | 1 | |
6 | Medidor de vazão | · British wawick brand,Argon,Oxigênio
| Pc | 2 | |
7 | Bomba de vácuo | Roots pump (BSJ70) -251 m3/h + single stage rotary vane pump (Laipo SV100B-100m3/h) | Pc | 1 | |
8 | Vacuum gauge | · INFICON
| Pc | 1 | |
9 | Especificação | Vacuum plasma cleaning machine spv-200 operation manual | Pc | 1 |