Описание

СПВ-60 Аппарат вакуумно-плазменной очистки

Контур:

Пылесос Плазмоочиститель(Плазменный очиститель),газ переводится в состояние плазмы посредством источника питания возбуждения, и плазма ДЕЙСТВУЕТ на поверхности продукта, очищая загрязняющие вещества на поверхности продукта., чтобы улучшить поверхностную активность и улучшить адгезию. Плазменная очистка - это новый метод., защита окружающей среды, эффективная и стабильная обработка поверхности.

СПВ-60 Аппарат вакуумно-плазменной очистки

пособенность продукта:

1.Гибкое приспособление для размещения продукта, может адаптироваться к нестандартным продуктам

2.Конструкция горизонтального электрода может удовлетворить требования обработки мягких продуктов..

3.Продукты с низким потреблением энергии и газа.

4.Удобный способ поднимать и опускать доску.

5.Интеграция вакуумной системы, маленький след

6.Разумное пространство плазменной реакции, чтобы лечение было более равномерным

7.Интегрированная конструкция системы управления делает работу более удобной.

СПВ-60 Аппарат вакуумно-плазменной очистки

япромышленное применение:

1.Индустрия мобильных телефонов: ТП, средняя рамка, активация очистки поверхности задней крышки

2.PCB/FPC промышленность: сверление отверстий и очистка поверхности, Огрубление и очистка поверхности покрытия

3.Полупроводниковая промышленность: полупроводниковая упаковка, модуль камеры, Светодиодная упаковка, BGA-упаковка, 4.Предварительная обработка Wire Bond

5.Керамика: упаковка, предварительная обработка клеем

6.Травление для придания шероховатости поверхности: PI придание шероховатости поверхности, ППС травление, Удаление PN-перехода полупроводникового кремниевого чипа, ЭТО офорт на пленке

7.Пластиковые материалы: Активация тефлоновой поверхности, Активация поверхности ABS, Активация очистки и других пластиковых материалов

8.Очистите поверхность перед нанесением ITO.

СПВ-60 Аппарат вакуумно-плазменной очистки

Ттехнические характеристики

Система питания

 

Радиочастотный источник питанияСреднечастотный источник питания
Власть0~600 Вт0~1000 Вт
Частота13.56МГц40КГц
Вакуумная система

 

Двухступенчатый пластинчато-роторный насос (масляный насос)40м3/ч
Вакуумная линияВсе трубы из нержавеющей стали, и высокопрочные вакуумные сильфоны
МатериалАлюминиевый сплав (настраиваемая камера из нержавеющей стали)
Толщина25мм
ГерметичностьСварочная пломба военного класса
Внутренний размер полости375×375×430 мм (Ш×В×Г)
Эффективный размер электродной пластины345×344 мм (Ш×Г)
Доступное пространство22.5мм
Расположение электродной пластиныГоризонтальная планировка, подвижное извлечение
Рабочий лотокСтандартный набор, материал по желанию (алюминий, проволочная сетка)
Рабочая среда6 слои
Газовая система

 

Диапазон расхода0~300СККМ
Технологический газ Газовый контурСтандартный с двумя каналами, можно настроить
Система контроляУправление системойПЛК
Способ доставки7 дюймовый сенсорный экран
Другой параметр

 

Граничный размер900×1600×900 мм (ширина×высота×глубина)
Масса150КГ
Цвет внешнего вида устройствасеребристо-серый


Требования заводской спецификации

Требования заводской спецификации
Характеристики мощности переменного токаИсточник питания:AC380В,50/60Гц,5 линии,50А
Заводской выхлопПоток:2.0 м³/мин
Требования к газу для заводских работПоток:1~10 л/мин

Давление:3~7 кг/см²

Диаметр трубы:6×4 мм

Материал: ПУ труба

Чистота: выше 99.99%

Требования к заводскому сжатому воздухуПоток:1~10 л/мин

Давление:3~7 кг/см²

Диаметр трубы:8×5 мм

Материал: ПУ труба

точка росы: ниже -40℃

Частица>0,3 мкм:10шт/фут³

Ссписок конфигураций

список конфигурации
НетИмяОписаниеЕдиницаКол-во
1ХозяинГраничный размер:900×1600×900 мм (Ш×В×Г)ПК1
2 Вакуумная камераВакуумная камера из алюминиевого сплава

Внутренние размеры 375×375×430 мм (Ш×В×Г)

ПК1
3Источник питания возбужденияРадиочастотный источник питанияСреднечастотный источник питанияНабор1
Частота:13.56МГц;

Власть :0~600 Вт

Автоматическое согласование вакуумных конденсаторов

Частота:40КГц;

0~1000 Вт;

 

4ПЛКСИМЕНС,С7-200ПК1
5Сенсорный экранвуаль, 7 дюймовый экран, MT6071iEПК1
6РасходомерБританский бренд WawickПК2
7Вакуумный насосЭстакадный двухступенчатый пластинчато-роторный насос (масляный насос) : 40м3/чПК1
8ВакуумметрИНФИКОН

 

ПК1
9Руководство

 

Руководство по эксплуатации вакуумного плазмоочистителя СПВ-60ПК1

Дополнительный стол

Дополнительный стол
Источник питания возбужденияРадиочастотный источник питанияСреднечастотный источник питания
Пользовательская мощность: частота:13.56МГц;

Власть:0~1000 Вт;

Изготовленная на заказ автоматическая машина для подбора вакуумных конденсаторов

Частота:40КГц,власть:2000Вт

 

ЦЕРЕС источник питания: частота 13,56 МГц;

Власть:0~600 Вт или 0–1000 Вт опционально

Американский автоматический преобразователь вакуумных конденсаторов CERES

Вакуумный насосГермания Leibao двухступенчатый пластинчато-роторный насос (масляный насос):40м3/ч
Эстакадный двухступенчатый пластинчато-роторный насос (масляный насос) :40м3/ч






    добавлен в вашу корзину:
    Проверить