СПВ-60 Аппарат вакуумно-плазменной очистки
- Описание
- Расследование
Описание
СПВ-60 Аппарат вакуумно-плазменной очистки
Контур:
Пылесос Плазмоочиститель(Плазменный очиститель),газ переводится в состояние плазмы посредством источника питания возбуждения, и плазма ДЕЙСТВУЕТ на поверхности продукта, очищая загрязняющие вещества на поверхности продукта., чтобы улучшить поверхностную активность и улучшить адгезию. Плазменная очистка - это новый метод., защита окружающей среды, эффективная и стабильная обработка поверхности.
СПВ-60 Аппарат вакуумно-плазменной очистки
пособенность продукта:
1.Гибкое приспособление для размещения продукта, может адаптироваться к нестандартным продуктам
2.Конструкция горизонтального электрода может удовлетворить требования обработки мягких продуктов..
3.Продукты с низким потреблением энергии и газа.
4.Удобный способ поднимать и опускать доску.
5.Интеграция вакуумной системы, маленький след
6.Разумное пространство плазменной реакции, чтобы лечение было более равномерным
7.Интегрированная конструкция системы управления делает работу более удобной.
СПВ-60 Аппарат вакуумно-плазменной очистки
япромышленное применение:
1.Индустрия мобильных телефонов: ТП, средняя рамка, активация очистки поверхности задней крышки
2.PCB/FPC промышленность: сверление отверстий и очистка поверхности, Огрубление и очистка поверхности покрытия
3.Полупроводниковая промышленность: полупроводниковая упаковка, модуль камеры, Светодиодная упаковка, BGA-упаковка, 4.Предварительная обработка Wire Bond
5.Керамика: упаковка, предварительная обработка клеем
6.Травление для придания шероховатости поверхности: PI придание шероховатости поверхности, ППС травление, Удаление PN-перехода полупроводникового кремниевого чипа, ЭТО офорт на пленке
7.Пластиковые материалы: Активация тефлоновой поверхности, Активация поверхности ABS, Активация очистки и других пластиковых материалов
8.Очистите поверхность перед нанесением ITO.
СПВ-60 Аппарат вакуумно-плазменной очистки
Ттехнические характеристики
Система питания
| Радиочастотный источник питания | Среднечастотный источник питания | |
Власть | 0~600 Вт | 0~1000 Вт | |
Частота | 13.56МГц | 40КГц | |
Вакуумная система
| Двухступенчатый пластинчато-роторный насос (масляный насос) | 40м3/ч | |
Вакуумная линия | Все трубы из нержавеющей стали, и высокопрочные вакуумные сильфоны | ||
Материал | Алюминиевый сплав (настраиваемая камера из нержавеющей стали) | ||
Толщина | 25мм | ||
Герметичность | Сварочная пломба военного класса | ||
Внутренний размер полости | 375×375×430 мм (Ш×В×Г) | ||
Эффективный размер электродной пластины | 345×344 мм (Ш×Г) | ||
Доступное пространство | 22.5мм | ||
Расположение электродной пластины | Горизонтальная планировка, подвижное извлечение | ||
Рабочий лоток | Стандартный набор, материал по желанию (алюминий, проволочная сетка) | ||
Рабочая среда | 6 слои | ||
Газовая система
| Диапазон расхода | 0~300СККМ | |
Технологический газ Газовый контур | Стандартный с двумя каналами, можно настроить | ||
Система контроля | Управление системой | ПЛК | |
Способ доставки | 7 дюймовый сенсорный экран | ||
Другой параметр
| Граничный размер | 900×1600×900 мм (ширина×высота×глубина) | |
Масса | 150КГ | ||
Цвет внешнего вида устройства | серебристо-серый |
Требования заводской спецификации
Требования заводской спецификации | |
Характеристики мощности переменного тока | Источник питания:AC380В,50/60Гц,5 линии,50А |
Заводской выхлоп | Поток:2.0 м³/мин |
Требования к газу для заводских работ | Поток:1~10 л/мин Давление:3~7 кг/см² Диаметр трубы:6×4 мм Материал: ПУ труба Чистота: выше 99.99% |
Требования к заводскому сжатому воздуху | Поток:1~10 л/мин Давление:3~7 кг/см² Диаметр трубы:8×5 мм Материал: ПУ труба точка росы: ниже -40℃ Частица>0,3 мкм:10шт/фут³ |
Ссписок конфигураций
список конфигурации | |||||
Нет | Имя | Описание | Единица | Кол-во | |
1 | Хозяин | Граничный размер:900×1600×900 мм (Ш×В×Г) | ПК | 1 | |
2 | Вакуумная камера | Вакуумная камера из алюминиевого сплава Внутренние размеры 375×375×430 мм (Ш×В×Г) | ПК | 1 | |
3 | Источник питания возбуждения | Радиочастотный источник питания | Среднечастотный источник питания | Набор | 1 |
Частота:13.56МГц; Власть :0~600 Вт Автоматическое согласование вакуумных конденсаторов | Частота:40КГц; 0~1000 Вт;
| ||||
4 | ПЛК | СИМЕНС,С7-200 | ПК | 1 | |
5 | Сенсорный экран | вуаль, 7 дюймовый экран, MT6071iE | ПК | 1 | |
6 | Расходомер | Британский бренд Wawick | ПК | 2 | |
7 | Вакуумный насос | Эстакадный двухступенчатый пластинчато-роторный насос (масляный насос) : 40м3/ч | ПК | 1 | |
8 | Вакуумметр | ИНФИКОН
| ПК | 1 | |
9 | Руководство
| Руководство по эксплуатации вакуумного плазмоочистителя СПВ-60 | ПК | 1 |
Дополнительный стол
Дополнительный стол | ||
Источник питания возбуждения | Радиочастотный источник питания | Среднечастотный источник питания |
Пользовательская мощность: частота:13.56МГц; Власть:0~1000 Вт; Изготовленная на заказ автоматическая машина для подбора вакуумных конденсаторов | Частота:40КГц,власть:2000Вт
| |
ЦЕРЕС источник питания: частота 13,56 МГц; Власть:0~600 Вт или 0–1000 Вт опционально ; Американский автоматический преобразователь вакуумных конденсаторов CERES | ||
Вакуумный насос | Германия Leibao двухступенчатый пластинчато-роторный насос (масляный насос):40м3/ч | |
Эстакадный двухступенчатый пластинчато-роторный насос (масляный насос) :40м3/ч |