打磨后, 金相试样需要抛光，以去除试样上磨削过程中产生的磨痕和变形层, 使它成为一面光滑的镜子. 现在, 抛光样品的方法包括机械抛光, 电解抛光, 化学抛光和复合抛光.

1.机械抛光: 在专用抛光机上抛光. 机械抛光主要分为两个步骤: 粗抛和精抛.
粗抛光: 目的是去除抛光变形层.
在过去, 常用磨料为α-Al2O3, 粒径10-20μm的Cr2O3或Fe2O3, 并以水悬浮液的形式使用. 现在, 人造金刚石磨料已逐渐取代氧化铝等磨料, 因为它有以下优点:
1) 与氧化铝相比, 粒径小得多的金刚石磨粒的抛光率要大得多, 如4-8μm金刚石磨粒的抛光率与10-20μm氧化铝或碳化硅的抛光率相似;
2) 浅表面变形层;
3) 良好的抛光质量.
精抛: 也称为最终投掷, 目的是去除粗抛产生的变形层, 使抛光损伤降到最低. 常用的抛光磨料有MgO和γ-Al2O3, 其中MgO具有良好的抛光效果, 但抛光效率低且难以掌握; γ-Al2O3抛光率高且易于掌握.

2.电解抛光: 采用阳极腐蚀法使样品表面光滑、光亮的抛光方法.
以不锈钢为阴极电解抛光, 抛光后的样品作为阳极, 容器内装有电解液, 当电流接通时, 样品中的金属离子溶解在溶液中, 在一定的电解条件下, 样品表面稍凸的部分比凹的部分溶解速度更快, 使样品表面逐渐粗糙、平坦光亮.
的优点和缺点:
1: 与机械抛光相比, 电解抛光是一种纯电化学溶解过程, 无机械力, 且不会造成金属表面变形.
2: 此方法宜用于低硬度的单相合金和铝合金, 镁合金, 铜合金, 钛合金, 不锈钢, ETC。, 一般机械抛光很难做到的.
3: 电解抛光对样品抛光度要求低 (一般与 800 水砂纸可以打磨), 速度快, 高效率.
4: 电解抛光对材料化学成分的不均匀性和微观偏析特别敏感, 非金属夹杂物会受到严重腐蚀, 因此不适合偏析严重的金属材料和金相样品进行夹杂物检测.
笔记: 电解抛光必须选择合适的电压, 控制电流密度, 电压太低和太高都不能达到正常抛光的目的.

3.化学抛光: 利用化学溶解获得光滑的抛光表面.
将样品浸入化学抛光液中, 适当搅拌或用棉花擦拭, 一段时间后可获得光亮的表面. 化学抛光具有化学腐蚀的作用, 可显示金相组织, 抛光后可直接在显微镜下观察.
化学抛光操作简单, 低成本, 不需要特殊设备, 原样表面光洁度要求不高.
化学抛光液的成分随抛光材料的不同而不同. 一般为混合酸. 常用的酸有: 正磷酸, 铬酸, 硫酸, 醋酸, 硝酸和氢酸; 为了增加金属表面的活性，以利于化学抛光, 添加一定量的过氧化氢. 化学抛光液使用后, 溶液中金属离子增加, 抛光效果减弱, 并且需要经常更换.